평평한 대상 대 회전 대상

평평한 대상 대 회전 대상

평면 대상 및 회전 대상은 구조 및 응용 분야에서 고유 한 특성을 갖는 두 가지 일반적인 스퍼터링 대상입니다.

평면 표적은 일반적으로 표적 챔버에 배치 된 물질 연구에 사용 된 실험 도구이다. 순수한 재료로 만들어졌으며 고정 평평한 형태를 나타냅니다. 재료 연구에서, 평면 표적은 종종 스퍼터링 증착 및 이온 빔 폭격과 같은 실험에 사용되며,이를 통해 연구자들은 재료의 구성 및 구조와 같은 관련 정보를 얻을 수 있습니다. 이런 종류의 목표의 중요한 장점은 단순한 구조와 강한 다양성으로 필름 계층의 균일 성과 반복성을 좋아합니다. 그러나 한 가지 중요한 단점 중 하나는 대상 이용률이 낮으며 일반적으로 약 20%에 불과합니다. 대상의 글로우 영역 (자기장 분포 영역)이 어느 정도 소비되면 구덩이 스트립을 형성하여 대상을 얇게 만듭니다. 구덩이 깊이가 특정 값에 도달하면 대상을 더 이상 사용할 수 없습니다.

회전 대상은 다른 속도와 방향으로 회전 할 수있는 회전 대상 유형입니다. 이 디자인은 대상에 물질을보다 균일하게 분포시킬 수 있습니다. 평평한 대상에 대한 대상 회전의 주요 장점은 소형 구조와 더 높은 목표 활용입니다. 이는 회전하는 대상이 평평한 목표의 활용도가 낮은 문제를 해결할 수 있음을 의미합니다. 그러나 회전하는 목표에는 몇 가지 단점이 있습니다. 예를 들어, 스퍼터링 할 때, 대상의 전체 표면은 많은 글로우 링을 생성하여 연속 밴드 글로우를 형성 할 수 없게됩니다. 따라서 넓은 영역의 필름을 코팅 할 때 필름 표면의 균일 성이 열악 할 수 있으며 특정 요구 사항을 충족하기가 어려울 수 있습니다.